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復(fù)合材料電極片激光沉積工藝開發(fā)與零件加工 | 20.0/套 | 復(fù)合材料電極片激光沉積工藝開發(fā)技術(shù)要求:1)電極片材料為TA1復(fù)合Pd;2)電極片為多層交錯網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)圓片,直徑20mm、60mm、100mm、300mm、400mm共5種規(guī)格;3)電極片的直徑誤差小于0.3%,變形量小于直徑的0.5%;4)提供全流程加工工藝參數(shù)。 在TA1粉末表面黏附一層Pd材料,以保證Pd在加工中均勻分布;預(yù)制所需直徑的網(wǎng)狀電極片基底材料并矯平;在基底材料上進(jìn)行工藝探索,匹配合適的激光沉積參數(shù),以實(shí)現(xiàn)電極材料與基底的良好結(jié)合,并減小基底的熱變形;設(shè)計工裝夾具,在加工過程中約束基底,防止熱變形導(dǎo)致加工精度不能保證;采用矯平機(jī)對沉積后的電極片矯平,以保證電極片的平整度。5種規(guī)格零件各需20片。 | 質(zhì)保1年。 |